ProtoLaser LDI and Electron Beam Lithography – EBL
Manufacturer: LPKF Laser & Elektronika d.o.o.
Year: 2011
Financed from EU (ESRD) founds from the operation Center of Excellence in Nanoscience and Nanotechnology – CENN Nanocenter 2010 – 2013.
DaLI je visokoločljiv osvetljevalni sistem za direktno lasersko litografijo. Omogoča hitro in prilagodljivo osvetljevanje fotolitografskih vzorcev z UV laserjem brez maske. Laser riše 2D vzorce po pikslih direktno iz CAD risbe. Tehnologija sloni na hitrih akustoptičnih deflektorjih in natančni xy mizi za vzorce. Uporablja se za splošno mikrostrukturiranje fotorezistov, za izdelavo prototipov, za osvetljevanje po meri izdelanih elektronskih vezij, mikrofluidičnih celic, MEMS ipd. Podlage so lahko tako prevodne kot neprevodne; silicijeve rezine, polprevodniki, steklo, keramika, itd.
Tehnične lastnosti:
- kontinuiran UV laser 375nm
- fine/coarse način, premera žarka 0.8um/2.4um
- področje osvetljevanja (max. velikost vzorca) 100mm x 100mm oz. 4” wafer
- natančna xyz motorizirana miza
- avto tilt/fokus korekcija
- integrirana kamera, vidno polje 300um
- poravnava na obstoječe strukture
- podpora CAD, uvoz dxf datotek
DaLI je visokoločljiv osvetljevalni sistem za direktno lasersko litografijo.
