Oprema za ciscenje substratov

Predvideni rok dobave opreme: druga polovica leta 2012.

Cilj delovnega sklopa je postavitev sistema za čiščenje različnih vrst substratov (stekla, silicijeve plošče), ki je osnovnega pomena za številne eksperimente v okviru predlaganega CO, saj so dobro definirani substrati osnova za marsikatero uspešno aplikacijo. Nameravamo postaviti kompleksen, večstopenjski sistem čiščenja substratov, ki bo obsegal vse moderne tehnike čiščenja površine, ki se običajno uporabljajo v industriji TK prikazovalnikov ali mikroelektroniki. Sistem bo vključeval tudi vse postopke jedkanja, razvijanja in odtsranjevanja fotoresista, kar nam bo omogočilo izvajanje mikrolitografije.

Odgovorna oseba:
prof.dr. Igor Muševič
igor.musevic@ijs.si